専門用語
物理気相成長法（PVD）。真空中で材料を気化させ、基板上に薄膜を堆積させる手法。
📝 薄膜工学の用語。蒸着やスパッタリングが代表例で、化学反応を伴わない点でCVDと区別される。
刀具表面的涂层是用物理气相沉积法制备的。
(Dāojù biǎomiàn de túcéng shì yòng wùlǐ qìxiàng chénjī fǎ zhìbèi de.)
工具表面のコーティングは物理気相成長法で作製されている。
物理气相沉积法对基板温度要求相对较低。
(Wùlǐ qìxiàng chénjī fǎ duì jībǎn wēndù yāoqiú xiāngduì jiào dī.)
物理気相成長法は基板温度への要求が比較的低い。
实验室新购置了一台物理气相沉积法镀膜设备。
(Shíyànshì xīn gòuzhì le yī tái wùlǐ qìxiàng chénjī fǎ dùmó shèbèi.)
研究室は物理気相成長法による成膜装置を新たに購入した。
⚖️ 類義語との比較
「物理气相沉积法」は物理的に材料を移送する方式、「化学气相沉积」は気相での化学反応で膜を形成する。
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生成日:
2026/07/19 22:23
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