名詞
気相堆積、気相蒸着。気体状態の物質を基板上に堆積させる薄膜形成技術。
📝 半導体製造や表面処理の分野で広く使用される技術。CVDやPVDなどがある。
汽相淀积是半导体制造中的关键工艺。
(qìxiāng diànjī shì bàndǎotǐ zhìzào zhōng de guānjiàn gōngyì.)
気相堆積は半導体製造における重要なプロセスである。
通过汽相淀积技术可以形成均匀的薄膜。
(tōngguò qìxiāng diànjī jìshù kěyǐ xíngchéng jūnyún de báomó.)
気相堆積技術によって均一な薄膜を形成できる。
汽相淀积的温度控制非常重要。
(qìxiāng diànjī de wēndù kòngzhì fēicháng zhòngyào.)
気相堆積の温度制御は非常に重要である。
⚖️ 類義語との比較
“汽相淀积”は気相からの堆積の総称。“化学气相沉积”（CVD）は化学反応を利用する方法。“物理气相沉积”（PVD）は物理的手段を用いる方法。
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生成日:
2026/05/31 08:29
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★☆☆☆ AI生成 (未検証)
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